Soutenance de Benoît Froment

Publié le 23 juin 2010

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Soutenance

29 juin 2010 à 15h. Intégration du siliciure de nickel pour les technologies CMOS decananometriques : 65nm et en deçà.

29 juin 2010 à 15h. Soutenance de Benoît Froment pour une thèse de doctorat de l'Institut polytechnique de Grenoble, spécialité micro et nano électronique intitulée : Intégration du siliciure de nickel pour les technologies CMOS decananometriques : 65nm et en deçà.

Lieu : Maison des Magistères - CNRS BP 166 - 25 avenue des Martyrs - 38042 Grenoble Cedex 9

Thèse préparée dans le laboratoire de STMicroelectronics de Crolles, sous la direction conjointe de Roland Hérino et Aomar Halimaoui.

Présentation rapide de la thèse

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mise à jour le 23 juin 2010

Institut polytechnique de Grenoble
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