Pouvez-vous nous décrire votre parcours ?
Vincent Destefanis : Originaire de Grenoble, j'ai fait mes études au lycée Champollion et ai ensuite intégré la prépa Grenoble INP, sans idée préconçue de ce que je voulais faire par la suite. C'est seulement en deuxième année de prépa que je me suis pris d'intérêt pour la physico-chimie des matériaux, grâce notamment aux interventions des professeurs des écoles d'ingénieurs du groupe. J'ai ainsi fait le choix de m'orienter vers ce qui à l'époque était encore l'ENSEEG.
En troisième année, j'ai fait, en double cursus, un master de recherche dont le stage m'a mené au LETI. J'y ai, par la suite, enchainé par une thèse sous la direction de Vinh Le Thanh (CNRS) et de Jean-MichelHartmann (CEA). Il s'agissait de développer des procédés de dépôt de couches minces sur silicium et d'en étudier la viabilité technologique sur des substrats avec différentes orientations cristallines.
En quoi cela consiste ?
V. D. : Si l'on change la maille cristalline du silicium, on change ses propriétés électroniques. La mobilité des porteurs électroniques est notamment augmentée, ce qui est très recherché pour améliorer les performances des transistors électroniques. J'ai ainsi pu développer des procédés de dépôt de couches minces, utiles à la fabrication de transistors sur ces différentes orientations cristallines. Autrement dit, j'ai testé l'impact de l'orientation cristalline du silicium sur les propriétés physico-chimiques de matériaux en couches minces. Ces procédés ont, in fine, été validés par la fabrication de transistors électroniques aux performances améliorées.
Parallèlement, j'ai étudié la gravure sélective de matériaux pour la microélectronique. Ce procédé est également très utilisé en microélectronique pour la fabrication de transistors. Dans mon cas, cette gravure était réalisée à l'aide d'un gaz dont l'application première, le nettoyage interne de réacteur de dépôt de couches minces, a été détournée un peu par hasard. Mon travail a notamment consisté à améliorer la sélectivité et la vitesse de ce procédé de gravure.
L'ensemble de ces travaux a donné lieu à de nombreuses publications dans des journaux scientifiques, à plusieurs présentations dans des conférences scientifiques internationales, ainsi qu'au dépôt de plusieurs brevets. C'est là que j'ai pris goût, grâce à un excellent encadrement, à la valorisation du travail scientifique.
J'ai ensuite effectué un post-doctorat sur le site IBM de l'état de New-York,auxEtats-Unis, avant d'être embauché commeingénieuren Recherche et Développement, chez Sofradir, spécialisé dans les détecteurs infrarouges. Si je travaille toujours dans le dépôt de couches minces, j'ai quitté le monde de la microélectronique pour l'optoélectronique, les applications étant à la fois civiles et militaires.
Si vous aviez un conseil à donner aux futurs docteurs, quel serait-il ?
V. D. : Je recommande aux futurs docteurs de ne surtout pas négliger la valorisation de leurs travaux. Il est très important pour leur future carrière de pouvoir publier des articles, de breveter et d'aller présenter leurs travaux dans des conférences internationales. C'est une excellente opportunité pour ne pas rester uniquement dans son laboratoire, pour voir comment l'on travaille ailleurs dans le monde. C'est par ce biais que l'on acquiert un regard critique sur ses travaux et que l'on peut les faire évaluer par ses pairs scientifiques. Pour aider à cette valorisation, la qualité de l'encadrement peut faire la différence, et est à prendre en compte lors du choix du laboratoire de thèse. En ce qui me concerne, j'avoue que j'ai eu beaucoup de chance !
