Soutenance de Guillaume Briend
Publié le 25 février 2009
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Soutenance
6 mars 2009 à 14h. Etude et développement d’un nouveau procédé de nettoyage chimique humide pour les surfaces front end des technologies CMOS (45nm et au-delà) intégrant de nouveaux matériaux.
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mise à jour le 25 février 2009