Soutenance de Guillaume Briend

Publié le 25 février 2009

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Soutenance

6 mars 2009 à 14h. Etude et développement d’un nouveau procédé de nettoyage chimique humide pour les surfaces front end des technologies CMOS (45nm et au-delà) intégrant de nouveaux matériaux.

6 mars 2009 à 14h. Soutenance de Guillaume Briend pour une thèse de doctorat de l'Institut polytechnique de Grenoble, spécialité Micro et Nano Electronique intitulée : Etude et développement d'un nouveau procédé de nettoyage chimique humide pour les surfaces front end des technologies CMOS (45nm et au-delà) intégrant de nouveaux matériaux.

Lieu : amphithéatre P015 situé à Phelma Polygone, 23 rue des Martyrs Grenoble

Thèse préparée dans le laboratoire d'Electronique, de Technologie et d'Instrumentation (LETI) du CEA Grenoble, sous la direction conjointe de M. Rabah Boukherroub et M. Pascal Besson et M. Thierry Salvetat.

Présentation rapide de la thèse

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mise à jour le 25 février 2009

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