Soutenance de Bruno Imbert

Publié le 6 février 2009

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Soutenance

26 février 2009 à 14h. Etude de la formation du siliciure de nickel-platine intégré dans la fabrication de transistors CMOS pour les technologies 65 et 45 nm.

26 février 2009 à 14h. Soutenance de Bruno Imbert pour une thèse de doctorat de l'Institut polytechnique de Grenoble, spécialité micro et nanoélectronique intitulée : Etude de la formation du siliciure de nickel-platine intégré dans la fabrication de transistors CMOS pour les technologies 65 et 45 nm.

Lieu : 23 rue des Martyrs, école PHELMA amphithéâtre P005

Thèse préparée dans le laboratoire IM2NP (INSTITUT MATÉRIAUX MICROÉLECTRONIQUE NANOSCIENCES DE PROVENCE) , sous la direction conjointe de M. THOMAS Olivier et M. ZOLL Stéphane.

Présentation rapide de la thèse

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mise à jour le 6 février 2009

Institut polytechnique de Grenoble
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